.八五年，机电部（如今的工部）45所研制成功分步光刻机样机，中k院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米g线光源，制程工艺达到1.5um，认为均达到gc生产的4800dsw水平，为国内大规模集成电路专用设备填补了项空白，这是国内第台分步投影式光刻机，在这

    &bs;&bs;&bs;&bs;《我的九八五》第九三九章 光刻机的现状

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